日本SDI浸漬提拉鍍膜機MD-0408-N1-CE是日本原裝實驗室/研發(fā)、臺式、銷售的微米速度超低速浸漬提拉鍍膜機，速度可變范圍從1nm/s到60mm/s。

產(chǎn)品特點：

• 可以對玻璃、有機玻璃、銅箔、管狀材料等基材以微米速度(變速單位：1μm)進行浸漬鍍膜。

• 適用于納米級分離膜的生成、粒子陣列和膜厚的形成。

• 采用觸控面板操作，可在觸控面板上，可以輕松完成設(shè)置速度變化點(多16個點)、速度變化(以1nm為單位)、重復運動、運動模式存儲(多8個模式)的操作。

• 觸控面板采用日語、英語兩種語言，且可以一鍵式切換。

  
  

產(chǎn)品應(yīng)用：

• 主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料.

技術(shù)參數(shù)：

行程：150mm(大可選800mm)

速度(Min)：1nm/s

速度(Max)：60mm/s

操作方法：觸控面板

屏幕顯示語言：英文/日文

處理速度數(shù)量：16個

停止位置數(shù)量：16個

停止時間數(shù)量：16個

連續(xù)運行模式：有

手動運行模式：有

存儲程序的數(shù)量：8個程序

監(jiān)控功能(當前速度):有

監(jiān)控功能(當前位置):有

剩余監(jiān)控時間：有

重復運行：有

標準夾具：材料：聚丙烯(PP)

電源：AC100V、250VA

承重量(max)：1kg

處理尺寸(max)：150mm(H）

線性運行模式：無

設(shè)備尺寸(mm)：420(W)×250(D)×557(H)

控制箱尺寸(mm):300(W)×285(D)×163(H)

備注：
※線性運行模式是指改變速度時，停止時間為零秒。

※手動運行模式是指以設(shè)定的速度進行上升/下降運行（上升速度和下降速度的另一種設(shè)置）
※()中所示的小速度和大速度列的數(shù)值可以通過轉(zhuǎn)換開關(guān)進行操作。